对“多腔并行PVT传输设备”的第二次整装调试,从下午一点一直进行到了晚上十点。
中间十六人团队出去吃了一次饭,但都是匆匆扒拉了一顿。
随着一个个零部件被精密安装,眼前数十立方米的大型设备逐渐完备。
整体来看,这台设备好似微缩版的“小别墅”,生成腔双联六个形成规整的长方体,而原料仓为了均匀性设置在上方,侧面还有配套的控制及电气系统。
由于最高的地方接近三米,背面还设置了一截钢制楼梯。
比起以前的CVD设备,眼前的这个更具有工业气息,当然不是粗犷工业风,而是科技工业风。
操作面板被点亮,展现出和其他自研设备一脉相承的UI界面和中文指示,工作人员将提前由“高温反应炉”生成的高纯度碳化硅粉末,用特制容器加入了原料仓中,并在得到翟达首肯后启动了仪器。。。
厚重的原料仓开始营造近真空环境,实验室内开始出现轻微的嗡嗡声。
足足15分钟后,设备被加热至2300°以上,真空预烧除杂后,气化的碳化硅开始传输至生长区。
每个腔室内,都有用于引导排列的“籽晶表面”圆盘,使得碳化硅气体会按照预定需求结晶排列。
在这一物质的250种排列晶型中,只有4H-SiC晶型可用,所以温度梯度要控制在±5°C以内。
翟达选择的衬底尺寸,是目前市场上属于先进、但未超标准的“6英寸”,不过在六腔体并联,且设备自研的情况下,效率依旧完爆。
说起这个“6英寸”还有点小郁闷,相当于15。24厘米,有零有整的。。。
作为全产业链自主可控,他们完全可以用公制单位而非英制单位,会更有助于标准化和体系化,奈何产业技术是有惯性的。
早期开发“功率器件制造工艺”时,衬底依赖英飞凌,东西都是配套的,现在也只能“6英寸”。
类似的“产业惯性”在其他公司也是一样,英制尺寸这种早就该被抛弃的东西,大多都是几十年来的沿袭,普通公司想改也改不了,渐渐成为行业习惯。
但他们全产业链自主可控了,就不需要搭理了。
再迭代一轮吧。。。等日后,下一阶段他就会逐步改为公制,不搞“8英寸”了,搞“20CM”衬底即可。
等待了足足一小时,加热、气相传输、温度传感等一切正常,托盘上终于观测到了碳化硅沉积。
0。3毫米。
堪称感人。。。若不是六联腔体同时生成,这速度足以让人抓狂。
众人看向翟达,等待着带头人的决断。
翟达叹了一口气:“等着吧,按照规划,需要生成20厘米高的晶锭,至少需要一星期时间。。。”
一周时间不能断,持续维持2300°高温,你就说这电费攒劲不攒劲?city不city?
所以对半导体企业来说,电费的每一毛都是利润。
且到这一步依旧还不能算大功告成。
要等20厘米高的晶锭取出后,切割成薄片,最后再通过繁琐的检测,才能宣告这台设备的合格、研发成功。
而且作为第一次正式运转,一天24小时都得有人盯着。
看大家都很严肃,翟达带上了一丝笑容,虽然无尘服下看不见:“不管怎么说,至少今天拿到了阶段性胜利,各位,干得不错。”
稀稀拉拉的回应并不热烈,一个是累了,另一个是都是科研工作者,知道现在远不是开香槟的时候。
翟达看了看表,接近12点,大家除了晚饭,已经工作了十个小时以上,而且是包裹在无尘服中,这是非常疲惫的。
一些体能不好的,已经有点站不稳了。
翟达安排道:“数据记录后,各位就回去休息吧,明天早上八点开始,排班值班,周墨,你明天早上早点过来。”
某个大白点点头,但紧接着想到:“那今晚。。。?”
翟达只说了两个字:“我来。”